1.  标准4或8显影腔体配置，多腔高产能，皆可独立设定参数

2.  8、12吋晶圆，于同设备兼容作业

3.  可对应高翘曲晶圆，±5mm

4.  各显影腔皆配置独立的FFU，转速调整与差压监控

5.  设备于无尘室占地面积小与耗能少，生产成本CoO低

6.  显影腔体气密性优，可抑制酸/碱气体外漏

7.  显影药液流量精确控制

8.  废液排放，显影腔体可对药液与水进行切换，可分开排废液

9.  水、气配管空间规划，方便维修与保养

10.  腔体的制程、配方与各功能参数汇集上传，符合半导体SECS/GEM与EAP作业要求

11.  可选配对应正、负型显影药液，例如RMX3000、KS5400等显影液

12.  可选配药液喷嘴、去离子水喷嘴、去离子水背洗与氮气干燥等，显影工艺方式

13. 可选配SEMI S2 & S8，第三方认证